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半导体工艺废气处理Local Scrubber的处理方式

半导体工艺废气处理Local Scrubber的处理方式

发布时间:2020-03-27
半导体工艺废气处理方式依据废气处理的特性,在处理可分为四种处理方式:1水洗式(处理腐蚀性气体)2氧化式(处理燃烧性,毒性气体3吸附式(干式)(依照吸附材种类处理对应之废气4等离子燃烧式(各类型废气皆可处理)各类型之处理皆有其优缺点及其适用范围.如表一所示.处理方式 适用范围 优点 缺点水洗时 设备便宜处理方式简单 仅能处理水溶性气体电热水洗式 应用范围较水洗时广 运转成本高干式 处理效率佳 不适用于容易堵塞或气体流量较大的工艺;运转成本高 等离子式 处理效率佳 成本高,不适用于粉尘过多之工艺,其中 (1)水洗式废气处理是最便宜的简单的处理方式,但只能处理水溶性气体;目前这类设备用得相当广泛,如MOCVD,PECVD,ICP等设备用NH3 Cl2,BCL3都用得到.(2)氧化式废气处理则是利用高温(火焰燃烧或者热电偶加热),使气体达到氧化所需温度,转变为没有危害性之气体再排放,应用范围较水洗式广泛,但建造成本及运转成本也较水洗式高;此类设备在PECVD上用得很广泛,如用到SiH4,PH3,B2H6,H2 ,CH4甚至NF3都可用此类设备处理。(3)吸附式则依照所需处理的废气种类,使用不同材质的吸附料,让废气通过吸附剂转变为没有危害性的气体再排放,此类系统的废气处理效率佳,但由于吸附剂让气体通过的通道由孔隙大小的限制,以及每组吸附剂都有其吸附处理的极限流量,因此不适用于容易堵塞或者气体流量较大的工艺中,而导致吸附剂需经常更换,使运转成本更高;(4)等离子式,其废气处理范围最广,处理效率佳,唯独其成本较高,且同样不适用于粉尘过多之工艺.深圳沃飞科技有限公司是一家从事气体应用系统工程的高新技术企业,公司成立于2011年,注册资金2180万;专业为客户提供大宗气体系统、电子特气系统、实验室气路系统、工业集中供气系统、高纯化学品供液系统、Local Scrubber尾气处理系统等全套工程技术服务和配套产品的一站系统解决方案,公司于2018年荣获“国家高新技术企业”认定。
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