在TFT-LCD制造工艺CVD沉积工序中使用到的工艺特气：硅烷(S1H4)，氨气(NH3)，磷烷(PH3)，笑气(N2O)，NF3等，另外参与工艺过程的还有高纯度氢气和高纯度氮气等大宗气体。溅射工序中要用到氩气，溅射成膜气体是溅射的主要材料。首先要求成膜气体不能喝靶材发生化学反应，最合适的气体是惰性气体。蚀刻工序中也会用到大量的特气，而电子特气多是易燃易爆、剧毒的气体，因此对气路的要求很高，技术也要求很高。沃飞科技专业从事超高纯特气输送系统的设计与安装。

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