半导体废气处理Local Scrubber的特性

半导体工艺中常使用的化学物质及其副产物,一般依照其化学特性与其不同的影响范围,

可分为:

1易燃性气体如SiH4 H2等

2毒性气体如AsH3,PH3等

3腐蚀性气体如HF,HCl等

4温室效应气体如CF4,NF3等

由于以上四种气体对环境或人体皆具有一定的危害性,必须防止其直接排放大气中,所以,一般半导体厂都以加装大型中央废气处理系统.但此系统仅以水洗涤废气.故其应用范围仅限

于处理水溶性气体,无法因应日新月异且分工细微的半导体工艺废气.因此必须依据各工艺所衍生出的气体特性种类,选择搭配相对应的废气处理设备,才能有效解决废气问题.而由于工作区域多半离中央废气处理系统前,常因气体特性导致管路中结晶或粉尘堆积,造成管路堵塞后导致气体泄漏,严重者甚至引起爆炸,无法确保现场工作人员之工作安全.因此在工作区域需配置适合工艺气体特性的小型废气处理设备(Local Scrubber),以减少在工作区域滞留的废气,确保人员安全。

深圳沃飞科技有限公司是一家从事气体应用系统工程的高新技术企业，专业为客户提供大宗气体系统、电子特气系统、实验室气路系统、工业集中供气系统、高纯化学品供液系统、Local Scrubber尾气处理系统等全套工程技术服务和配套产品的一站系统解决方案，公司于2018年荣获“国家高新技术企业”认定。