CVD（化学气相沉积法）是传统的制备薄膜的技术，其中PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 是指等离子体增强化学气相沉积法，有基本温度低、沉积速率快和成膜质量好等优点。PECVD的原理是什么？特气柜应用在哪？下面就让深圳沃飞科技的小编来给大家介绍一下吧。

PECVD：是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜，其中，特气系统保证了含有薄膜成分原子的气体的稳定输送和纯度要求。

为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用等离子体的活性来促进反应的化学气相沉积法，因此被称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。使用PECVD技术，在衬底温度保持为350℃左右就可以得到的良好SiOx或SiNx薄膜，就是一个很好的例子，可以作为集成电路最后的钝化保护层，提高集成电路的可靠性。

沉积氮化硅膜(Si3N4)，便是SiNx薄膜的一种，由硅烷和氮反应形成的，而硅烷（SiH4）是一种在室温下能着火、在空气或卤素气体中能爆炸性燃烧的剧毒性特种气体，特气柜的存在就是为了保证硅烷这类气体的安全使用。

沃飞WOFLY全自动特气柜（GC）配有PLC面板，配合触摸屏进行系统显示和设定，实现设备安全有效的运行；特气柜的柜体采用防腐蚀涂层，且板材厚底不低于2.5mm，同时配有防爆观察窗，可以随时观察柜内变化；特气柜的报警侦测警报功能齐全，并在柜门关闭情况下，特气柜内部都处于负压状态，可第一时间发现硅烷这类特种气体的泄漏并阻止泄漏气体扩散，避免事故的发生。

沃飞WOFLY全自动特气柜（GC）拥有SIME 2认证，品质上值得信赖，基本功能有自动吹扫、自动切换以及紧急情况下的自动安全切断（当设定报警信号被触发时），其内部PLC程式设计的安全联锁功能、高纯阀件的合理选择和布局，既满足了等离子体增强CVD(PECVD)在生产过程中对含有薄膜成分原子的气体的高纯度连续稳定供给的要求，也保证了生产安全和员工人身安全。

PECVD虽然拥有众多优点，但是因科技和经济的限制，还存在设备投资大、生产过程中会产生对人体有害的物质等缺点。以上，就是关于PECVD的简单介绍和特气柜在其中的应用，感谢您的阅读！沃飞科技，专业从事气体应用系统工程！