三氟化氮（NF3），在微电子工业中是一种优良的等离子蚀刻气体，随着纳米技术和电子工业的飞速发展，其需求量也在日益增加。高纯三氟化氮（NF3）属于电子特气，毒性较强，人体直接接触会有很大的危险，这时，便需要电子特气柜这样的特种气体设备来保证气体的纯度和使用安全。

什么是三氟化氮？

三氟化氮（nitrogen trifluoride）化学式NF₃，在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。NF3是低毒性物质，但是它能强烈刺激眼睛、皮肤和呼吸道粘膜，腐蚀组织，研究表明：大鼠吸入1000ppm·l小时未见死亡，但出现高铁血红蛋白血症，当吸入10000ppm·l小时有死亡，在2500ppm时吸毒后4小时死亡。要知道在微电子行业刻蚀工艺中，所使用的NF3是储存在气体钢瓶中的高纯度压缩气体。

三氟化氮的应用领域：

高纯三氟化氮（NF3）具有非常优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时是非常良好的清洗剂。三氟化氮主要用于化学气相淀积（CVD）装置的清洗，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。

三氟化氮可以单独或与其它气体组合，用作等离子体工艺的蚀刻气体，例如，NF3、NF3/Ar、NF3/He用于硅化合物MoSi2的蚀刻；NF3/CCl4、NF3/HCl既用于MoSi2的蚀刻，也用于NbSi2的蚀刻。

电子特气柜的功能作用：

电子特气柜是专为易燃易爆、毒性、腐蚀性等危险性气体供应而设计的特种气体系统设备，按类别可分为全自动、半自动和手动操作，有包括自动吹扫、自动切换以及紧急情况下的自动安全切断（当设定报警信号被触发时）等基本功能。

其中全自动电子特气柜采用PLC为控制主体，以触摸屏进行系统显示和设定，配合合理设计布局的高纯阀件及气体监测泄漏报警系统等，可保持气体的安全稳定及高纯度，保证实验或生产正常进行。

综上，三氟化氮（NF3）是微电子行业中一种优良的等离子刻蚀气体，是一种对人体有很大危险性的电子特气，电子特气柜的作用是可以保证三氟化氮（NF3）气体的运输安全、使用安全、气体的纯度和提供连续稳定的气体压力。感谢您的阅读！